Volgens berichten in de media hebben het Belgian Microelectronics Research Centre (IMEC) en ASML op 4 juni de oprichting aangekondigd van een gezamenlijk High NA EUV-lithografielaboratorium in Veldhoven, Nederland.
Na jaren van zorgvuldige constructie en integratie is dit laboratorium nu volledig voorbereid en zal het geavanceerde technische ondersteuning bieden aan toonaangevende mondiale fabrikanten van logica- en opslagchips, evenals aan leveranciers van geavanceerde materialen en apparatuur.
De kernapparatuur in het laboratorium is een prototype EUV-scanner met hoge numerieke apertuur (TWINSCAN EXE: 5000), samen met bijbehorende verwerkings- en meetinstrumenten, die gezamenlijk zullen bijdragen aan doorbraken in de toekomstige chipproductie.
De opening van dit gezamenlijke laboratorium wordt gezien als een belangrijke mijlpaal in het voorbereidingsproces voor massaproductie met hoge NA EUV-technologie. De industrie verwacht dat met de voortdurende volwassenheid en popularisering van deze technologie grootschalige massaproductietoepassingen tussen 2025 en 2026 zullen inluiden.
Vermeldenswaard is dat Asma eerder publiekelijk de nieuwste generatie High NA EUV-lithografiemachines heeft tentoongesteld. Deze lithografiemachine heeft een enorm volume, vergelijkbaar met een dubbeldekkerbus, en weegt tot 150 ton.
Vanwege de enorme omvang en het complexe assemblageproces moet de apparatuur voor transport worden verpakt in 250 afzonderlijke platte noedels, wat de buitengewone uitdagingen in het productie- en transportproces aantoont.
Ondanks de hoge productiekosten van de High NA EUV-lithografiemachine, die naar verluidt 350 miljoen euro (ongeveer 2,7 miljard yuan) kost, is de waarde ervan op het gebied van halfgeleiderproductie onmeetbaar. Het zal een essentieel wapen worden voor de drie grootste waferfabrikanten ter wereld om grootschalige productie van geavanceerde processen onder de 2 nm te realiseren.